Impianti PECVD al plasma

Il PECVD (deposizione di vapore chimico potenziato dal plasma) è un processo chimico di deposizione che avviene in una condizione di vuoto e permette la formazione di film nanometrici attraverso la condensazione sul substrato di un precursore gassoso. Lo scopo dei trattamenti con tecnologia al plasma è quello di migliorare le prestazioni delle superfici dei materiali.

Gli impianti al plasma che progettiamo, realizziamo e installiamo permettono di modificare la tensione superficiale di diversi tipi di substrati, immettendo in camera dei gas specifici come Ossigeno, Argon, Azoto ed attivandoli con scarica ionica attraverso generatori a corrente continua pulsato (DC pulsed), a media frequenza (MF) o a radio frequenza (RF). Le superfici ottenute sono chimicamente diverse da quelle iniziali, mantenendone però le stesse caratteristiche meccaniche e fisiche.

I trattamenti più richiesti sono pulizia profonda delle superfici, sgrassaggio dei metalli, attivazioni e pretrattamento delle superfici plastiche, aumento della bagnabilità, miglioramento delle qualità idrofile e/o idrofobe, sterilizzazione dei materiali, antiadesione, e trattamento antifog.

Il know-how consolidato in oltre 30 anni di attività ci permette di offrire innovazioni continue nell’ambito di sistemi PECVD che producono film invisibili e di qualità elevatissima.

Gli impianti di coating al plasma firmati Arzuffi sono spesso utilizzati ed integrati nelle linee di verniciatura preesistenti al fine di aumentare e garantire una maggiore forza di adesione della vernice al substrato.

Tenendo sempre come punto fermo la volontà di sviluppare solo ed esclusivamente tecnologie green, i nostri impianti al plasma impiegano una tecnologia sostenibile, ecologica e pulita, dato che non vengono utilizzati composti chimici tossici o solventi e i consumi di energia sono decisamente contenuti.

Contattaci per maggiori informazioni sui nostri impianti in alto vuoto al plasma. Operiamo in Italia e nel resto del mondo.